전자빔 리소그레피(Electron Beam Lithography(EBL))
전자빔 리소그래피(Electron Beam Lithography, EBL)는 고해상도 나노 패턴을 형성하기 위해 전자빔을 사용하는 리소그래피 기술입니다. 이 기술은 반도체 제조, 나노기술 응용, 연구 개발 등에서 중요한 역할을 합니다. 이번 글에서는 전자빔 리소그래피의 개념, 역사, 원리, 과정, 응용 분야 및 장단점에 대해 설명하겠습니다. 전자빔 리소그래피의 개념 전자빔 리소그래피는 전자빔을 이용하여 기판에 미세 패턴을 형성하는 기술입니다. 이는 주로 나노미터 크기의 패턴을 형성할 수 있는 고해상도 리소그래피 방법으로, 반도체 소자, 나노 구조, 광학 소자 등의 제작에 사용됩니다. 전자빔 리소그래피는 포토레지스트 대신 전자레지스트를 사용하여 전자빔에 반응하는 감광성 물질을 기판에 코팅하고, 전자빔을..
2024. 7. 22.